欲測(cè)礦物要保持相同測(cè)試條件

  所以該方法被國(guó)際礦相學(xué)委員會(huì)規(guī)定為定量測(cè)定礦物反射率的標(biāo)準(zhǔn)。以下因素會(huì)影響反射率和雙反射的正確測(cè)定，必須注意。光源 光源強(qiáng)度及入射光波長(zhǎng)對(duì)反射率影響很大。光源越強(qiáng)，反射率就越高;波長(zhǎng)改變，反射率也隨之改變(表 )。

       可見，回轉(zhuǎn)窯測(cè)定反射率時(shí)，對(duì)標(biāo)樣和欲測(cè)礦物要保持相同的測(cè)試條件。光片光片表面磨光質(zhì)量要高，做到無(wú)擦痕、麻點(diǎn)或氧化膜等，否則會(huì)降低礦物的反射率。此外，冶金回轉(zhuǎn)窯光片必須嚴(yán)格壓平，若光片表面與入射光不垂直，則會(huì)影響反射光的方向，降低礦物的反射率。

         反擊式破碎機(jī)其他因素 浸沒介質(zhì)、放大倍數(shù)、焦距、內(nèi)反射及溫差等因素均能影響反射率的高低。礦物光片在單偏光鏡下呈現(xiàn)的顏稱為礦物的反射。反射隨礦物方位而變化的現(xiàn)象稱為反射多。反射與肉眼觀察礦物標(biāo)本時(shí)的顏有所不同，它是由礦物磨光面對(duì)鏡下光線直射時(shí)的選擇反射作用造成的“表”。